• Open Daily: 10am - 10pm
    Alley-side Pickup: 10am - 7pm

    3038 Hennepin Ave Minneapolis, MN
    612-822-4611

Open Daily: 10am - 10pm | Alley-side Pickup: 10am - 7pm
3038 Hennepin Ave Minneapolis, MN
612-822-4611
Rozpylanie krysztalów PbTe i ponowne osadzanie rozpylonych cząstek

Rozpylanie krysztalów PbTe i ponowne osadzanie rozpylonych cząstek

Paperback

Physics

ISBN10: 6208945887
ISBN13: 9786208945886
Publisher: Wydawnictwo Nasza Wiedza
Published: Jun 17 2025
Pages: 52
Weight: 0.18
Height: 0.12 Width: 6.00 Depth: 9.00
Language: Polish
Rozważono zjawisko rozpylania bocznych powierzchni krysztalów PbTe wyhodowanych ze stopu metodą Bridgmana za pomocą plazmy argonowej w warunkach wtórnej neutralnej spektrometrii masowej. Przedstawiono nowe zjawiska - aperiodyczne oscylacje szybkości rozpylania Pb i Te, ogromną przewagę rozpylania Te osiągającą ponad dwa rzędy wielkości na początku procesu rozpylania oraz znaczny nadmiar zintegrowanej wydajności rozpylania Te w stosunku do Pb w przypadku dlugotrwalego rozpylania plazmą o niskiej energii (50-160 eV). Wykazano korelacje między cechami rozpylania powierzchni krysztalów PbTe a procesami ponownego osadzania się rozpylanych cząstek na powierzchni rozpylającej. Stwierdzono, że tworzenie się i ponowne rozpylanie subkrytycznych jąder nowej fazy prowadzi do oscylacji wydajności rozpylania Pb i Te. Tworzenie się ponownie napylanych struktur powierzchniowych o rozmiarach przekraczających rozmiary krytyczne prowadzi do zmian średnich wielkości wydajności napylania Pb i Te. Osobliwości stanów naladowania międzycząsteczkowego Pb i Te w matrycy krysztalu PbTe powodują ogromne preferencyjne napylanie Te przez wiązki jonów Ar+ o niskiej energii.

Also from

Zayachuk, Dmytro

Also in

Physics